English
Kazakh
Português (Brasil)
Русский
简体中文
Himiâ vysokih ènergij
ISSN 0023-1193 (Print)
Мәзір     Мұрағат
  • Бастапқы
  • Журнал туралы
    • Редакция тобы
    • Редакция саясаты
    • Авторларға арналған ережелер
    • Журнал туралы
  • Шығарылымдар
    • Іздеу
    • Ағымдағы шығарылым
    • Ретракцияланған мақалалар
    • Мұрағат
  • Байланыс
  • Жазылу
  • Барлық журналдар
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • Автор бойынша
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
  • Категориялар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер IR spectroscopy PECVD degradation fluorescence gamma irradiation glow discharge inclusion complexes kinetics luminescence nanoparticles nitro compounds papain photoinitiator plasma quantum chemistry radiolysis strength thin films triplet state γ-irradiation γ-облучение
Ағымдағы шығарылым

Том 59, № 5 (2025)

Ақпарат
  • Оқырмандар үшін
  • Авторларға
  • Кітапханалар үшін
×
Пайдаланушы
Құпия сөзді ұмыттыңыз ба? Тіркеу
Хабарламалар
  • Қарау
  • Тіркелу
Іздеу
Парақтау
  • шығарылымдар
  • Автор бойынша
  • атаулары бойынша
  • бөлімдер бойынша
  • басқа журналдар
  • Категориялар
Жазылу Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер IR spectroscopy PECVD degradation fluorescence gamma irradiation glow discharge inclusion complexes kinetics luminescence nanoparticles nitro compounds papain photoinitiator plasma quantum chemistry radiolysis strength thin films triplet state γ-irradiation γ-облучение
Ағымдағы шығарылым

Том 59, № 5 (2025)

Ақпарат
  • Оқырмандар үшін
  • Авторларға
  • Кітапханалар үшін
Бастапқы > Іздеу > Автор туралы ақпарат

Автор туралы ақпарат

Кудряшов, М. А.

Шығарылым Бөлім Атауы Файл
Том 58, № 3 (2024) PLASMA CHEMISTRY Direct One-Stage Plasma Chemical Synthesis of Nanostructured Thin Films of the System β-Ga2O3-GaN of Different Composition
Том 58, № 4 (2024) PLASMA CHEMISTRY Gallium selenide thin films grown on silicon by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Том 57, № 6 (2023) PLASMA CHEMISTRY Investigation of the Plasma-Chemical Synthesis of Thin Ga2O3 Films Doped with Zn in One Step in Plasma
Том 57, № 6 (2023) PLASMA CHEMISTRY Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Thin GaS Films on Various Types of Substrates
Том 57, № 5 (2023) PLASMA CHEMISTRY A Study on the Process of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of (AlxGa1 – x)2O3 Thin Films
 

 

Developed by ECO-VECTOR

 

Powered by EVESYST

TOP